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SilcoNert®2000是非晶硅的化學(xué)保護(hù)屏障,其進(jìn)一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過應(yīng)用化學(xué)氣相沉積(CVD),SilcoNert®2000非常適用于硫化物,汞,氨或其他活性化合物的痕量級(jí)測(cè)試精度(<百萬分之一)。
特色與優(yōu)勢(shì)
•非視距工藝;所有孔和復(fù)雜的幾何形狀都能被涂層
•消除吸附和再測(cè)試
•獲得更快的校準(zhǔn)
•對(duì)結(jié)果充滿信心
SilcoNert® 2000 規(guī)格
基板兼容性*: SS合金,陶瓷,玻璃,鈦及大多數(shù)特殊金屬,TIG / MIG焊 接、真空鎳釬焊區(qū)域
允許溫度范圍*: -210°C ~ + 450°C(惰性氣體),400°C(氧化性氣體)
標(biāo)準(zhǔn)厚度: 100-500 nm
允許接觸的pH值 : 0-8
潤滑性(摩擦系數(shù)): 0.7
疏水性(接觸角): 80°
耐磨性(盤上針法測(cè)試磨損率):14.00(304不銹鋼:13.81)